1200℃气相沉积炉(CVD炉)
信息ID:50264119产品详情有图信息
- 信息类型:求购
- 价格:35000元
- 所属行业:电锅炉设备
- 数量:1套
- 发布时间:2018-12-20
- 所在地区:北京海淀区
详细介绍:
HKCVD-1200由开启式单(双)温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点:
1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成,真空可达0.001Pa;
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的控制;
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界Swagelok卡套连接,不漏气;
5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。
主要用途和适用范围:
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
技术参数:
HKCVD-1200
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本产品通过CE认证,保证了设备的运行安全.
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控温方式
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采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。
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加热元件
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0Cr27Al7Mo2
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工作电源
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AC220V 50HZ/60HZ
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额定功率
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4KW
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炉管尺寸
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Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
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工作温度
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≤1150℃
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温度
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1200℃
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恒温精度
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±1℃
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加热区长度
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440mm或220mm/220mm
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升温速度
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≤20℃/min
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密封方式
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不锈钢快速法兰挤压密封
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HKCVD-1200-K
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真空范围
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0.1-0.01Pa
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极限真空
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4.0*10^-4Pa
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产品配置
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双级旋片真空泵+扩散泵
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测量方式
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复合真空计
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真空规管
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电阻规+电离规
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冷却方式
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水冷
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工作电源
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AC380V 50/60HZ
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抽 速
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100L/S
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HKCVD-1200-I
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测量范围
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1*10^5~1*10^-1 Pa
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稳压(真空)范围
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1*10^3~1*10Pa
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压力(真空)稳定精度
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±3%
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控制范围
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2.5*10^3~5*10^-1 Pa
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控制精度
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±1%
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HKCVD-1200-Ⅲ
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控制方式
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D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
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流量规格
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0-500SCCM /0-1SLM(可根据客户需要配置)
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线 性
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±1%F.S
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准确度
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±1%F.S
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重复精度
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±0.2%F.S.
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响应时间
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≤2sec
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耐 压
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3MPa
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气路通道
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3通道(根据客户需求)
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针 阀
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316不锈钢
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管 道
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Φ6mm不锈钢管
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接 口
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SwagelokΦ6mm
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