1200度真空井式坩埚炉

真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

主要用途：高校、科研院所、工矿企**要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
 
详细参数
 
产品型号
 XY-1200VC
 
工作电源
 AC220V 50/60HZ
 
炉膛尺寸
 外径205x内径190x高340mm
 
额定功率
 ≤3kw
 
外形尺寸
 450x550x650mm
 
重量
 70kg
 
升温快速度
 0~30℃/min（建议不超过20℃）
 
产品特点
 可装真空装置，能在多种气氛下工作，50段程序控温
 
加热元件
 含钼电阻丝
 
常用温度
 ≤1100℃
 
温度
 1200℃
 
控温方式
 50段智能化程序PID模糊控制
 
恒温精度
 ±1℃
 
控温仪表
 智能温控仪
 
密封方式
 全封闭
 
炉膛
 氧化铝多晶纤维炉膛，设计合理，经久耐用，保温性能好，节能
 
测温元件
 K型热电偶
 
炉门结构
 上开式
 
主要配件
 密封法兰1套，坩埚1个，真空泵1台，高温手套1副,热电偶1根等
 
真空极限
 -0.1MPa