微机控制高温扩散炉

用途： 　　作为半导体器件电力半导体的扩散工艺的氧化工艺。 特点： 　　控温精度高、恒温区长、升温快、功耗小、结构紧凑、性能可靠，由于采用了新工艺，我厂扩散炉使用的温度可达1300℃。