出售荷兰扩散炉TS603.详情请看附件
设备用途:(用于8英寸wafer.每炉100wafer)
1,干氧和湿氧方法sio2光学介质薄膜
2,sin介质薄膜的生长
3,sio2,sin等介质薄膜的高温退火(zui高达1300)